Blogue

A fabricação de semicondutores é a pedra angular do desenvolvimento da ciência e da tecnologia modernas, com a busca contínua da indústria por circuitos integrados menores, mais rápidos e mais eficientes, a precisão e a complexidade técnica do processo de fabricação também estão aumentando, cada etapa é inseparável do alto desempenho , equipamentos semicondutores de alta qualidade e alta precisão. Como um material cerâmico estrutural com excelente desempenho, o carboneto de silício (SiC) possui características de alta densidade, alta condutividade térmica, alta resistência à flexão, alto módulo de elasticidade, forte resistência à corrosão, resistência a altas temperaturas, etc. deformação por tensão e tensão térmica, e pode se adaptar à forte corrosão e ao ambiente de reação em temperatura ultra-alta da epitaxia de wafer, gravação e outros elos de fabricação. Portanto, tem sido amplamente utilizado em processos de fabricação de semicondutores, como retificação e polimento, tratamento térmico epitaxial/oxidação/difusão, litografia, deposição, gravação e implantação iônica.

A fabricação de wafer é inseparável da oxidação, difusão, recozimento, liga e outros processos de tratamento térmico, e o equipamento semicondutor utilizado no processo de tratamento térmico possui fornos de oxidação (que são divididos em fornos horizontais e fornos verticais), tratamento térmico rápido (RTP, RapidThermalProcessing ) equipamento. Devido à alta temperatura operacional, os requisitos de desempenho dos componentes na câmara de reação também são elevados. As peças de carboneto de silício sinterizado de alta pureza têm características de alta resistência, alta dureza, alto módulo de elasticidade, alta rigidez específica, alta condutividade térmica, baixo coeficiente de expansão térmica, etc., e são peças indispensáveis ​​na câmara de reação do tratamento térmico de circuito integrado equipamento. Inclui principalmente barco vertical , pedestal , câmaras de ar  e placas defletoras de isolamento térmico.

Atualmente, a maior parte da participação de mercado do mercado de carboneto de silício sinterizado de alta pureza para equipamentos semicondutores é dominada principalmente por empresas estrangeiras, como o Japão Kyokera Group e os Estados Unidos Quastai. Através da acumulação tecnológica e da inovação a longo prazo, eles desenvolveram não apenas uma gama completa de produtos, mas também a tecnologia de processamento de propriedades materiais, precisão e estrutura complexa atingiu o nível de liderança da indústria. Ela pode fornecer componentes especiais para equipamentos de núcleo de circuito integrado, como máquina de fotolitografia, equipamento de gravação de plasma, equipamento de deposição de filme e equipamento de implantação iônica.